台灣是世界知名的半導體王國，半導體產業占了GDP將近15% (資料來源：台灣經濟研究院2020數據)，在半導體產業中，許多製程需要使用到超純水，一如摩爾定律的預期，每片晶圓上可生產的電晶體(IC)數量隨著技術進步快速的增加，因此水質對製程的影響也越來越重要，只要水中有微量的雜質存在就有可能影響最終的良率。

至於半導體產業中哪些流程需要使用超純水呢？
我們將半導體的製程簡單歸類在下圖中：

半導體產業製程簡圖

由上圖中可以發現，無論是製程中使用的化學原料，以至晶圓本身製造、加工以至於封裝測試都會有使用到超純水的機會，至於所使用到的水質如何規範？

根據美國材料試驗組織(ASTM)所提出的ASTM D5127-07 「電子與半導體工業所使用超純水標準指引 (Standard guide for ultra-pure water used in the electronics and semiconductor industries) 」，將建議的水質依照製程線寬(linewidth)分類為六種：

ASTM D5127-07 半導體用水規範

以2021年的先進製程來看，目前台積電已發展到10nm(0.01μm) 以下製程，屬於表中Type E-1.2 的等級。
將規格項目與其可能產生的影響整理大致整理如下表格：

汙染物對半導體製程的影響

至於在進行各項水質的檢測時，常常需要使用乾淨的超純水作為空白樣品分析或是配藥，使用製程用水做檢驗用水會有球員兼裁判的疑慮，如果製程水中有汙染物，將同時存在空白樣品與待測樣品中，很容易會造成誤判進而影響製程。
因此，為了確保檢驗的獨立與正確性，往往必須使用獨立、經過確校驗證的超純水系統來當作檢驗用水的來源。
Milli-Q®提供了市面上水質最佳的超純水系統IQ7000，搭配專用的IQ element痕量過濾取水槍，全機經過縝密的設計並通過世界各國法規規範，內建附出廠校正報告並可每年校正的線上導電度計以及Anatel技術TOC偵測器，能夠由自來水直接產生半導體產業需求的痕量(sub-ppt)等級超純水，省下由製程區配置管路至檢驗區的昂貴費用與龐大工程。

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Milli-Q IQ7000產生超純水規格

IQ 7000 + IQ element 產生超純水，經Agilent ICP-MS8900分析所得數據